SiC陶瓷反射鏡的制備工藝及特點(diǎn)

SiC反射鏡坯體根據(jù)其制備工藝的不同可分成很多種。主要的材料類型普通高溫?zé)Y(jié)爐燒結(jié)法SiC(Sintered SiC)、熱(等靜)壓法SiC(HP SiC)、反應(yīng)燒結(jié)法SiC(RB SiC)、化學(xué)氣相沉積法SiC(CVD SiC)、多孔泡沫法SiC (Porous SiC)陶瓷等。 高溫?zé)Y(jié)爐為不同工藝方法制備的SiC陶瓷反射鏡性能比較。從各 神工藝制備的SiC陶瓷材料都具有反射鏡要求的優(yōu)異力學(xué)性能及熱物理性能, 但只有CVD工藝制備的SiC材料能夠滿足光學(xué)加工要求，適合用作高性能反射 鏡的光學(xué)鏡面，但CVD制備工藝周期長，僅適合制備高純度、薄層制品，因 此在制備厚的高性能SiC陶瓷反射鏡時(shí)，通常需將反射鏡坯體與反射鏡光學(xué)鏡 面釆用不同工藝分別制備,以利用不同制備工藝的優(yōu)點(diǎn)滿足反射鏡使用的要求。湖南艾普德高溫?zé)Y(jié)爐。 陶瓷反射鏡一般由坯體及表面光學(xué)反射層組成，坯體要求滿足反射鏡所要求的 力學(xué)、熱學(xué)以及輕覺化結(jié)構(gòu)要求，而光學(xué)層材料則要求細(xì)晶、致密、可加工到足夠 髙的表面光潔度，以及與坯體的物理、化學(xué)性能相匹配。除CVD SiC涂層外，由于琪品或多品Si與SiC材料有良好的熱匹配性能，同時(shí)也能夠滿足光學(xué)拋光精 度的要求,常用來作為SiC反射鏡表面的光學(xué)反射涂層。

除SiC陶瓷反射鏡外,SiC基復(fù)合材料同樣由于其優(yōu)異的力學(xué)和熱學(xué)性能成 為反射鏡坯體的可選材料,SiC基復(fù)合材料一般包括C/SiC復(fù)合材料和SiC/SiC 復(fù)合材料兩種，與SiC/SiC M合材料相比,c/sic復(fù)合材料具有更低的膨脹系數(shù) 和更高的導(dǎo)熱系數(shù)，成為Sic基反射鏡發(fā)展的重要方向。與SiC單相陶瓷反射 鏡相比,C/SiC復(fù)合材料反射鏡具有如下特性：

(1) 低密度，密度為1.7~2.7g?cm-3,并且可調(diào)整，能進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)輕量化；

(2) 高模量；

(3) 低膨脹系數(shù)，在低溫下接近零膨脹,且膨脹系數(shù)可根據(jù)組分比來調(diào)節(jié);

(4) 高熱導(dǎo)性能； 

(5) 高熱穩(wěn)定性能；

(6) 更易實(shí)現(xiàn)輕量化；

(7) 耐環(huán)境性(如高低溫環(huán)境、耐腐蝕、耐輻射等性能)；

(8) 制備工藝相對(duì)簡單，成本較低。

因此,C/SiC復(fù)合材料作為一種新型反射鏡材料，有望代替SiC單相陶瓷材料作為輕質(zhì)反射鏡材料。